Projetando os fotorresistes semicondutores do futuro

Os semicondutores são componentes essenciais da vida moderna, impactam as economias globais e impulsionam avanços tecnológicos significativos. Devido a isso, espera-se que a demanda do mercado aumente, o que significa que o processo de fabricação deverá ser ampliado proporcionalmente.

A iminente "era pós-Moore" gerou uma necessidade urgente de abordagens criativas para o projeto de semicondutores, visto que o setor não pode mais depender da duplicação bienal da densidade de transistores descrita pela Lei de Moore e enfrenta barreiras técnicas extremas para avanços contínuos sob o status quo. Os microchips estão ficando menores, resultando em tamanhos de recursos em escala nanométrica cada vez menores, que são difíceis de alcançar sem sacrificar o desempenho ou a eficiência de produção. Como elementos essenciais do processo de fabricação de semicondutores, os revestimentos fotorresistes, que exigem uma grande quantidade de material, representam alvos de alto valor para inovação.

Embora a recente transição para a litografia ultravioleta extrema (EUV) signifique um ponto de virada para o setor de semicondutores devido à sua capacidade de criar padrões pelo menos três vezes menores do que os métodos litográficos anteriores, o uso contínuo de fotorresistes legados impede que essa tecnologia maximize seu potencial. O desenvolvimento de materiais fotorresistes de última geração é uma próxima etapa essencial, porém desafiadora, para impulsionar os avanços globais de longo prazo em computação, sustentabilidade e crescimento econômico.

Os revestimentos fotorresistes são os principais alvos para a inovação em P&D.

A composição de revestimentos fotorresistes apresenta diversos desafios devido aos potenciais riscos ambientais e ao uso abaixo do ideal dos recursos. O setor eletrônico provavelmente enfrentará uma pressão crescente de múltiplas frentes, incluindo regulamentações governamentais e consumidores ecologicamente conscientes, para adotar normas de produção de semicondutores mais sustentáveis. Fazer alterações nos materiais utilizados no desenvolvimento de fotorresistes seria um passo impactante rumo a práticas de fabricação mais sustentáveis. O desenvolvimento de novos materiais fotorresistes deve substituir as resinas fenólicas existentes, os produtos químicos fluorados e/ou os compostos que produzem benzeno, sem comprometer o desempenho. Isso apresenta oportunidades para uma inovação ambientalmente inteligente.

As melhorias no design dos materiais de revestimento fotorresistes atuais também devem atender à demanda por resoluções cada vez maiores, à medida que as dimensões dos semicondutores diminuem para acomodar a miniaturização dos dispositivos. Revestimentos fotorresistes que maximizam a absorção da luz EUV seriam úteis, já que fotorresistes antigos são compostos principalmente por elementos transparentes ao EUV, como carbono, oxigênio e hidrogênio. Estão surgindo avanços nessa área, mas ainda há potencial para mais inovação.

Pesquisadores que utilizam as soluções da CAS têm acesso a informações abrangentes para auxiliar na revisão da literatura e desenvolvimento de materiais, garantindo a proteção de PI para suas inovações e uma infraestrutura de transformação digital personalizada para acelerar seus processos.

Explore as Soluções do CAS

Descubra os principais insights de pesquisa em fotorresistes por meio de uma revisão da literatura eficiente.

O setor de eletrônicos e as equipes de pesquisa de semicondutores estão buscando urgentemente novas abordagens para o design de fotorresiste, o que torna mais importante do que nunca acompanhar o crescente corpo de conhecimento. Ao tentar criar novas formulações de fotorresiste, os cientistas precisam navegar pela literatura que envolve as diferentes opções de materiais para encontrar a mais adequada para sua aplicação. O CAS SciFinder® foi projetado para maximizar os esforços de revisão da literatura, concentrando-se nas informações mais relevantes e impactantes.

Com a plataforma CAS SciFinder Discovery Platform^™, é fácil acompanhar as tendências de publicações do setor de semicondutores para materiais fotorresistes convencionais e emergentes usando termos de pesquisa específicos.

‍

Apesar das tendências de publicação flutuantes, o volume total de publicações científicas relacionadas às três principais categorias de materiais fotorresistes (resinas, sensibilizadores e solventes/reveladores) nos últimos 50 anos ressalta a vasta quantidade de informações disponíveis na área de desenvolvimento de fotorresistes.

O CAS SciFinder pode restringir as pesquisas dentro dessas categorias amplas para identificar materiais fotorresistes específicos de interesse usando palavras-chave precisas, como:

Simplifique o processo de revisão da literatura, avalie tendências e acelere a busca por designs aprimorados de revestimentos fotorresistes usando o CAS SciFinder. Nosso repositório de literatura com curadoria especializada possui técnicas avançadas de filtragem que simplificam a navegação até seu tópico de interesse, deixando mais tempo para a inovação.

Saiba mais sobre a busca de referências no CAS SciFinder

Refinar os materiais de revestimento fotorresiste para um melhor desempenho

Os materiais para novos revestimentos fotorresistes podem afetar o desempenho dos semicondutores. Os inovadores nesta área precisarão avaliar as substâncias candidatas para garantir que atendam a critérios rigorosos, como compatibilidade química, fotossensibilidade ou fotoatividade, propriedades físicas específicas (por exemplo, solventes de alta vs. baixa ebulição) e potencial para reter padrões de alta resolução (nível nanométrico). A homogeneidade do revestimento e a uniformidade da espessura, especialmente em wafers grandes, também são fatores críticos para o rendimento de fabricação e para o desempenho dos semicondutores, e estão ligados à composição e às propriedades do fotoresiste. Sem um recurso dedicado para ajudar a refinar os materiais prospectivos, a busca por moléculas candidatas poderia se tornar um obstáculo intransponível.

Com o CAS SciFinder, você tem acesso ao CAS REGISTRY^®, o recurso abrangente de coleção de substâncias e dados químicos, confiável por pesquisadores, fabricantes e reguladores no mundo todo. O CAS REGISTRY pode ajudar você a explorar as propriedades estruturais de potenciais resinas fotoresistes, PAGs, solventes e muito mais. Utilize filtros para refinar suas buscas por Conceito e Função da Substância, aprimorando ainda mais os resultados da sua busca para identificar a estrutura necessária para sua próxima inovação. Com fácil acesso a referências, reações e fornecedores relacionados, ele reúne em um só lugar todas as informações importantes para sua pesquisa em materiais fotoresistes para semicondutores.

Saiba mais sobre a pesquisa de substâncias no CAS SciFinder

Aproveite o apoio de PI ao desenvolver novos materiais fotoresistes

Os pesquisadores do setor de semicondutores precisam proteger seus desenvolvimentos de ponta em revestimentos fotoresistes com os melhores recursos de proteção de PI disponíveis. O STN IP Protection Suite^™ oferece ferramentas para você navegar com eficiência por um cenário competitivo, com soluções de pesquisa abrangentes, análises e recursos de apoio personalizado.

Devido à sua presença fundamental em vários setores, da saúde à defesa nacional, os semicondutores têm um valor significativo no mercado global, alimentando trilhões de dólares em bens e processos. Há um enorme potencial de inovação e intensa concorrência neste setor para oferecer novas soluções fotoresistes para fabricar chips menores e de maior fidelidade.

Com o STN IP Protection Suite, você pode acessar insights críticos de PI para examinar o cenário de inovação em fotoresiste e proteger seus novos desenvolvimentos em semicondutores. Desde a exploração de informações abrangentes sobre patentes até a criação de alertas personalizados sobre novos pedidos e pesquisas, trabalhar com a CAS oferece suporte em sua jornada de proteção de PI e ajuda a garantir a segurança de suas descobertas importantes em materiais fotoresistes.

Saiba mais sobre o STN PI Protection Suite

Otimize seu fluxo de trabalho de desenvolvimento de materiais fotoresiste com IA e serviços digitais.

Considerando a crescente influência da inteligência artificial (IA) na pesquisa e nos setores científicos, a implementação de um plano abrangente de transformação digital é essencial para acompanhar o ritmo. Para expandir os avanços dos revestimentos fotoresiste, nossa equipe da CAS Custom Services^SM pode ajudar você a desenvolver fluxos de trabalho inovadores em IA que aceleram inovações futuras enquanto reduzem os custos de pesquisa e desenvolvimento. Essa abordagem está se tornando um recurso essencial para enfrentar alguns dos desafios mais complexos da ciência, como evidenciado por pesquisadores dos setores de biotecnologia e farmácia que utilizam a IA para obter sucesso na descoberta de medicamentos.

O setor de semicondutores também está bem posicionado para se beneficiar da IA e do aprendizado de máquina na descoberta de materiais. Um estudo de 2022 utilizou um fluxo de trabalho de descoberta impulsionado por IA para identificar candidatos PAGs à base de sulfônio com propriedades favoráveis para substituir componentes fotoresistes menos sustentáveis. O programa "Acelerar Inovações em Tecnologias Emergentes" do Departamento de Energia dos EUA (DOE) financiou recentemente um projeto para usar aprendizado de máquina para acelerar o desenvolvimento e a validação de novos materiais fotoresiste híbridos para padronização EUV, sinalizando ainda mais a promessa da transformação digital.

Ao aplicar sua experiência em gerenciamento digital e de conhecimento, nossos especialistas em serviços personalizados da CAS podem ajudar você a criar pipelines projetados de forma estratégica para atender às suas metas de pesquisa de semicondutores e reduzir os custos de desenvolvimento. Nossa equipe pode ajudar na integração de seus dados no CAS Content Collection™ e em conjuntos de dados externos de terceiros, além de oferecer apoio personalizado para aproveitar soluções digitais de ponta de todos os tipos, inclusive IA e aprendizado de máquina.

Saiba mais sobre os Serviços Personalizados do CAS

Impulsionar o desenvolvimento de fotoresistes para moldar o futuro dos avanços tecnológicos

À medida que o setor eletrônico se esforça para expandir as capacidades dos semicondutores além das limitações atuais, este é o momento certo para investir em P&D de materiais fotoresistes inovadores. Embora os pesquisadores deste setor enfrentem muitos desafios, a CAS pode ajudar a remover os obstáculos à descoberta, fornecendo revisões da literatura avançadas, recursos abrangentes de dados químicos, proteção de PI e suporte à transformação digital. Os cientistas que utilizam a tecnologia CAS estão mais bem preparados para criar revestimentos fotoresistes inovadores e de alto desempenho, que permitirão encontrar soluções para os desafios de miniaturização e sustentabilidade dos dispositivos. Faça parceria com a CAS hoje mesmo e acelere sua jornada para criar os fotoresistes do futuro.