Los semiconductores son componentes críticos de la vida moderna, que influyen en las economías mundiales e impulsan importantes avances tecnológicos. Debido a ello, se espera que aumente la demanda del mercado, lo que significa que se prevé que el proceso de fabricación se amplíe al mismo ritmo.
La rápida llegada de la «era post-Moore» ha impulsado la necesidad urgente de enfoques creativos para el diseño de semiconductores, ya que la industria ya no puede depender de la duplicación bienal de la densidad de transistores descrita por la Ley de Moore y se enfrenta a barreras técnicas extremas para seguir avanzando en la situación actual. Los microchips son cada vez más pequeños, lo que da lugar a tamaños de características a nanoescala cada vez más reducidos que son difíciles de conseguir sin sacrificar el rendimiento o la eficiencia de la producción. Como elementos esenciales del proceso de fabricación de semiconductores, los recubrimientos fotorresistentes, que requieren un uso intensivo de materiales, representan objetivos de gran valor para la innovación.
Aunque la reciente transición a la litografía ultravioleta extrema (EUV) supone un punto de inflexión para la industria de los semiconductores debido a su capacidad para crear patrones al menos tres veces más pequeños que los métodos litográficos anteriores, el uso continuado de fotorresistentes tradicionales impide que esta tecnología aproveche todo su potencial. El desarrollo de materiales fotorresistentes de última generación es un paso esencial, aunque difícil, para impulsar los avances globales a largo plazo en informática, sostenibilidad y crecimiento económico.
Los recubrimientos fotorresistentes son objetivos primordiales para la innovación en I+D
La composición de los recubrimientos fotorresistentes plantea varios retos debido a los posibles riesgos medioambientales y al uso menos que óptimo de los recursos. Es probable que la industria electrónica se enfrente a una mayor presión desde múltiples frentes, incluidas las regulaciones gubernamentales y los consumidores ecoconcienciados, para adoptar normas de producción de semiconductores más sostenibles. Introducir cambios en los materiales utilizados en el desarrollo de fotorresinas sería un paso importante hacia prácticas de fabricación más sostenibles. Los nuevos desarrollos de materiales fotorresistentes deben sustituir a las resinas fenólicas, los productos químicos fluorados o los compuestos productores de benceno existentes sin reducir el rendimiento. Este aspecto presenta oportunidades para la innovación ecológica.
Las mejoras en el diseño de los materiales de recubrimiento fotorresistentes actuales también deben abordar la demanda de una resolución cada vez mayor a medida que disminuye el tamaño de los semiconductores para adaptarse a la miniaturización de los dispositivos. Los recubrimientos fotorresistentes que maximizan la absorción de la luz EUV serían útiles, ya que los fotorresistentes tradicionales se componen principalmente de elementos transparentes a la EUV, como el carbono, el oxígeno y el hidrógeno. Se producen avances en este ámbito, pero aún existe potencial para una mayor innovación.
Los investigadores que utilizan las soluciones de CAS tienen acceso a información completa que les ayuda en la revisión de la bibliografía y el desarrollo de materiales, lo que garantiza la protección de la propiedad intelectual de sus innovaciones y una infraestructura de transformación digital personalizada para acelerar sus procesos.
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Descubra información clave sobre la investigación en fotorresinas mediante una revisión eficiente de la bibliografía
La industria electrónica y los equipos de investigación de semiconductores buscan urgentemente nuevos enfoques para el diseño de fotorresinas, por lo que es más importante que nunca mantenerse al día de los nuevos conocimientos. Cuando se busca crear nuevas formulaciones de fotorresistentes, los científicos deben examinar la bibliografía sobre las diferentes opciones de materiales para encontrar la más adecuada para su aplicación. CAS SciFinder® está diseñado para maximizar los esfuerzos de revisión de la bibliografía y se centra en la información más pertinente e impactante.
Con CAS SciFinder Discovery PlatformTM, es fácil mantenerse al día de las tendencias de publicación de la industria de los semiconductores en materia de materiales fotorresistentes convencionales y emergentes mediante términos de búsqueda específicos.
A pesar de las fluctuaciones en las tendencias de publicación, el volumen total de publicaciones científicas relacionadas con las tres categorías principales de materiales fotorresistentes (resinas, sensibilizadores y disolventes/reveladores) en los últimos 50 años pone de relieve la gran cantidad de información disponible en el campo del desarrollo de fotorresistentes.
CAS SciFinder puede reducir las búsquedas dentro de estas amplias categorías para localizar materiales fotorresistentes específicos de interés mediante palabras clave precisas, tales como:
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Categoría |
Palabras clave |
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Resina |
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Sensibilizador |
diazonaftocinona (DNQ), resistente amplificado químicamente (CAR), generador de fotoácido (PAG) |
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Disolvente/revelador |
hidróxido de tetrametilamonio (TMAH), hidróxido de potasio (KOH), hidróxido de colina |
Optimice el proceso de revisión de la bibliografía, evalúe las tendencias y acelere la búsqueda de diseños mejorados de recubrimientos fotorresistentes con CAS SciFinder. Nuestro repositorio de bibliografía, seleccionado por expertos, cuenta con técnicas de filtrado avanzadas que simplifican la navegación hasta el tema de su interés, lo que le deja más tiempo para la innovación.
Más información sobre la búsqueda de referencias en CAS SciFinder®
Refine los materiales de recubrimiento fotorresistente para obtener un mejor rendimiento
Los materiales para los nuevos recubrimientos fotorresistentes pueden afectar al rendimiento de los semiconductores. Los innovadores en este ámbito tendrán que examinar las sustancias candidatas para asegurarse de que cumplen criterios estrictos, como la compatibilidad química, la fotosensibilidad o la fotoactividad, las propiedades físicas específicas (por ejemplo, disolventes de alto o bajo punto de ebullición) y el potencial para conservar patrones de alta resolución (a nivel nanométrico). La homogeneidad del recubrimiento y la uniformidad del espesor, especialmente en obleas grandes, es otro factor crítico que contribuye al rendimiento de la fabricación y al rendimiento de los semiconductores en relación con la composición y las propiedades de la fotorresina. Sin un recurso específico que ayude a perfeccionar los materiales potenciales, la búsqueda de moléculas candidatas podría convertirse en un obstáculo insuperable.
Con CAS SciFinder, usted obtiene acceso a CAS REGISTRY®, la completa colección de sustancias y el recurso de datos químicos en el que confían investigadores, fabricantes y reguladores de todo el mundo. CAS REGISTRY puede ayudarle a explorar las propiedades estructurales de posibles resinas fotorresistentes, PAG, disolventes y mucho más. Utilice filtros para limitar sus búsquedas por concepto y función de la sustancia, y refine aún más los resultados de la búsqueda para identificar la estructura que necesita para su próxima innovación. Con un fácil acceso a referencias, reacciones y proveedores relacionados, se reúne toda la información importante para la investigación de materiales fotorresistentes para semiconductores en un solo lugar.
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Aproveche el apoyo en materia de propiedad intelectual al desarrollar nuevos materiales fotorresistentes
Los investigadores del sector de los semiconductores necesitan proteger sus desarrollos de recubrimientos fotorresistentes de vanguardia con los mejores recursos de protección de la propiedad intelectual disponibles. STN IP Protection SuiteTM puede proporcionar herramientas para navegar de manera eficiente por el panorama competitivo con soluciones de búsqueda completas, análisis y capacidades de soporte personalizadas.
Debido a su presencia crítica en numerosas industrias, desde la salud hasta la defensa nacional, los semiconductores tienen un valor significativo en el mercado global e impulsan billones de dólares en bienes y procesos. Existe un enorme potencial de innovación y una intensa competencia en este sector para ofrecer nuevas soluciones fotorresistentes que permitan fabricar chips más pequeños y de mayor fidelidad.
Con STN IP Protection Suite, puede acceder a información crítica sobre propiedad intelectual para examinar el panorama de la innovación en fotorresistencia y proteger sus nuevos desarrollos en semiconductores. Desde la exploración de información exhaustiva sobre patentes hasta la creación de alertas personalizadas sobre nuevas solicitudes e investigaciones, trabajar con CAS le ayuda en su camino hacia la protección de la propiedad intelectual y le permite garantizar la seguridad de sus avances en materiales fotorresistentes.
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Optimice el flujo de trabajo de desarrollo de materiales fotorresistentes con IA y servicios digitales
Dada la creciente influencia de la inteligencia artificial (IA) en la investigación y las industrias científicas, es esencial implementar un plan de transformación digital completo para mantener el ritmo. Para ampliar los límites de los avances en el recubrimiento fotorresistente, nuestro equipo de CAS Custom ServicesSM puede ayudarle a crear nuevos flujos de trabajo de IA que aceleren las innovaciones futuras y reduzcan los costes de investigación y desarrollo. Este enfoque se está convirtiendo en un recurso esencial para abordar algunos de los retos más formidables de la ciencia, como lo demuestran los investigadores de las industrias biotecnológica y farmacéutica que emplean la IA para descubrir fármacos con buenos resultados.
La industria de los semiconductores también está bien posicionada para beneficiarse de la IA y el aprendizaje automático para el descubrimiento de materiales. Un estudio de 2022 aprovechó un flujo de trabajo de descubrimiento impulsado por IA para identificar candidatos a PAG basados en sulfonio con propiedades favorables para sustituir a los componentes fotorresistentes menos sostenibles. El programa Accelerate Innovations in Emerging Technologies (Acelerar las innovaciones en tecnologías emergentes) del Departamento de Energía de los Estados Unidos (DOE) ha financiado recientemente un proyecto para utilizar el aprendizaje automático con el fin de acelerar el desarrollo y la validación de nuevos materiales fotorresistentes híbridos para el patrón EUV, lo que supone una nueva señal de la promesa de la transformación digital.
Gracias a su experiencia en gestión digital y de conocimientos, nuestros expertos de CAS Custom Services pueden ayudarle a crear procesos diseñados de forma racional para alcanzar sus objetivos de investigación en semiconductores y reducir los costes de desarrollo. Nuestro equipo puede ayudarle a integrar sus datos tanto en CAS Content Collection™ como en conjuntos de datos externos de terceros, al tiempo que le proporciona asistencia personalizada para aprovechar todo tipo de soluciones digitales de vanguardia, incluidas la inteligencia artificial y el aprendizaje automático.
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Impulse el desarrollo de fotorresistentes para dar forma al futuro de los avances tecnológicos
A medida que la industria electrónica se esfuerza por superar las limitaciones actuales de los semiconductores, es el momento adecuado para invertir en I+D en el desarrollo de materiales fotorresistentes innovadores. Aunque los investigadores de este sector se enfrentan a muchos retos, CAS puede ayudar a eliminar los obstáculos para el descubrimiento, ya que proporciona revisiones de bibliografía avanzada, recursos de datos químicos completos, protección de la propiedad intelectual y apoyo a la transformación digital. Los científicos que utilizan CAS están mejor equipados para crear recubrimientos fotorresistentes novedosos y de alto rendimiento que permitirán encontrar soluciones a los retos de la miniaturización y la sostenibilidad de los dispositivos. Asóciese hoy mismo con CAS y acelere su camino hacia la creación de los fotorresistentes del mañana.